Analyse et prédiction de séries temporelles par méthodes non linéaires

Application à des données industrielles et financières
Première édition

Cette troisième livraison des Cahiers du RESIPROC invite à renouveler l'approche des métiers du communicateur face à l’essor conjoint du numérique et d’Internet. Lire la suite

Cette troisième livraison des Cahiers du RESIPROC invite à renouveler l'approche des métiers du communicateur face à l’essor conjoint du numérique et d’Internet. Elle vise à répondre à un ensemble de questions en apparence simples : un communicateur numérique est-il différent d’un communicateur classique ? Les formations en communication doivent-elles être repensées ? De nouvelles compétences viennentelles s’ajouter ou se substituer à celles traditionnellement attendues d’un communicateur ? Est-il plus pertinent de qualifi er ces métiers par le support qu’ils emploient ou la fi nalité de communication demeure-t-elle primordiale ? Dans un premier temps, les textes rassemblés analysent comment le communicateur se trouve bousculé par le numérique et dans un second soulèvent la question des compétences à transmettre.


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Spécifications


Éditeur
Presses universitaires de Louvain
Auteur
Amaury Lendasse,
Collection
Thèses de l'École polytechnique de Louvain
Langue
français
Catégorie (éditeur)
Sciences appliquées > Ingénierie mathématique
BISAC Subject Heading
TEC000000 TECHNOLOGY & ENGINEERING
Code publique Onix
06 Professionnel et académique
CLIL (Version 2013-2019 )
3069 TECHNIQUES ET SCIENCES APPLIQUEES
Date de première publication du titre
29 février 2016
Subject Scheme Identifier Code
Classification thématique Thema: Technologie, ingénierie et agriculture, procédés industriels
Type d'ouvrage
Thèse

Livre broché


Date de publication
01 janvier 2007
ISBN-13
978-2-87463-068-2
Ampleur
Nombre absolu de pages : 264, Nombre de pages de contenu principal : 264
Code interne
75708
Format
16 x 24 x 1,5 cm
Poids
434 grammes
Prix
21,89 €
ONIX XML
Version 2.1, Version 3

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Sommaire


List of Figures xvii

List of Tables xxvii

List of Abbreviations xxxi

List of Symbols xxxiii

1 Introduction 1

1.1 History . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 1

1.2 Timeline of Semiconductor Devices . . . . . . . . . . 1

1.3 Development of SOI MOSFET's . . . . . . . . . . . . 2

1.4 Why Novel Devices based on SOI Technology? . . . . 6

1.5 Multiple-gate devices . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8

1.5.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8

1.5.2 Why the move to multiple-gate devices? . . . . 12

1.5.3 Advantages of the multiple-gate structure . . . 13

1.5.3.1 Subthreshold Regime . . . . . . . . 13

1.5.3.2 Increased drain current . . . . . . . 15

1.5.3.3 Speed superiority . . . . . . . . . . 17

1.5.3.4 Volume inversion . . . . . . . . . . 17

1.6 PresentWork . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 19

2 Numerical simulation tools 27

2.1 Numerical simulations . . . . . . . . . . . . . . . . . 27

2.2 Monte-Carlo Simulation . . . . . . . . . . . . . . . . 28

2.3 Challenges and needs . . . . . . . . . . . . . . . . . . 28

2.4 Different numerical simulation tools . . . . . . . . . . 30

2.5 Numerical simulation: ATLAS Package . . . . . . . . 33

2.5.1 Theory of Carrier Statistics . . . . . . . . . . . 33

2.5.2 Transport model . . . . . . . . . . . . . . . . 34

2.5.2.1 Drift-diffusion model . . . . . . . . 35

2.5.2.2 Energy Balance model . . . . . . . . 36

2.5.3 Recombination and generation of carriers . . . 37

2.5.4 Impact Ionization . . . . . . . . . . . . . . . . 38

2.5.5 Interface charge . . . . . . . . . . . . . . . . . 41

2.5.6 Mobility . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 41

2.5.7 Self-heating . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 42

2.5.8 Carrier heating . . . . . . . . . . . . . . . . . 43

2.6 Doping Profile . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 43

2.7 Conclusion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 45

3 Graded-Channel Single-Gate and Double-Gate SOI MOSFETs 47

3.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 47

3.2 Fabrication of Graded-Channel devices . . . . . . . . 50

3.3 Graded-Channel Single-Gate SOI MOSFET . . . . . . 54

3.3.1 Threshold voltage and Subthreshold-slope at Low- Vds . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 55

3.3.2 Saturation Current . . . . . . . . . . . . . . . 57

3.3.3 Analog Characteristics . . . . . . . . . . . . . 59

3.4 Graded-Channel Double Gate devices . . . . . . . . . 63

3.4.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 63

3.4.2 Analytical Modeling . . . . . . . . . . . . . . 66

3.4.3 Subthreshold Regime . . . . . . . . . . . . . . 68

3.4.4 Saturation Current . . . . . . . . . . . . . . . 69

3.4.5 Analog characteristics . . . . . . . . . . . . . 73

3.4.5.1 Gate transconductance . . . . . . . . 73

3.4.5.2 Transconductance-to-current ratio . . 75

3.4.5.3 Early voltage . . . . . . . . . . . . . 76

3.4.5.4 Voltage gain . . . . . . . . . . . . . 79

3.4.6 Graded-Channel architecture: Physics . . . . . 82

3.5 Conclusion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 87

4 Planar Double-Gate SOI MOSFET with prepatterned cavities 89

4.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 89

4.2 Planar double-gate MOSFET fabrication techniques . . 90

4.2.1 Gate-All-Around by isotropic etch of buried oxide 90

4.2.2 CEA-LETI wafer bonding . . . . . . . . . . . 91

4.2.2.1 Non-self-aligned double-gate wafer bondingprocess . . . . . . . . . . . . . . 91

4.2.2.2 Self-aligned double-gate wafer bondingprocess . . . . . . . . . . . . . . 94

4.2.3 Double-gate devices fabricated based on the Siliconon- Nothing device . . . . . . . . . . . . . . . 96

4.3 Double-gate fabrication with prepatterned cavities and wafer bonding . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 97

4.4 Critical points . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 101

4.4.1 Surface activation . . . . . . . . . . . . . . . . 103

4.4.2 Annealing . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 112

4.4.3 Cleanliness . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 114

4.4.4 TMAH etching . . . . . . . . . . . . . . . . . 114

4.4.5 Chemical vapor deposition of Polysilicon into buried cavities . . . . . . . . . . . . . . . . . 115

4.4.6 Alignment of top and bottom gates . . . . . . . 118

4.5 Electrical characterization of built planar DG MOSFETs 120

4.6 Silicon-on-Nothing . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 125

4.7 Conclusion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 135

5 Quasi Double-Gate SOI MOSFET 137

5.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 137

5.2 Devices analyzed . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 140

5.3 Analog and Digital analysis . . . . . . . . . . . . . . . 142

5.3.1 Analysis of 30 nm Si thickness devices . . . . 142

5.3.2 Analysis of 20 nm Si thickness devices . . . . 149

5.4 Limitation of emulating a Quasi Double-gate . . . . . 155

5.5 Conclusion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 161

6 Performance comparison of Multiple-gate MOS devices 165

6.1 Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 165

6.2 Numerical simulations of Multiple-gate MOSFETs . . 166

6.2.1 Subthreshold static performance . . . . . . . . 169

6.2.2 Analog static Analysis . . . . . . . . . . . . . 170

6.2.3 AC Analysis . . . . . . . . . . . . . . . . . . 177

6.2.3.1 Intrinsic capacitances . . . . . . . . 178

6.2.3.2 Parasitic capacitiances . . . . . . . . 178

6.3 Experimental results: FinFETs . . . . . . . . . . . . . 184

6.3.1 FinFET architectures . . . . . . . . . . . . . . 184

6.3.2 Measured DC characteristics . . . . . . . . . . 186

6.4 Conclusions . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 191

7 Conclusion 195

A Example of net list for 2-D Double-Gate SOI MOSFET numerical simulation 201

B Example of net list for a 3-D Double-Gate SOI MOSFET numerical simulation 207

Bibliography 212